產(chǎn)品詳情
新柯隆濺射機(jī)RAS-1100c的規(guī)格參數(shù)可能因具體型號和配置而有所差異，但通常包括以下幾個方面：
聯(lián)系：韋小姐 17687705997
設(shè)備類型：高性能濺射沉積系統(tǒng)
型號：RAS-1100C
生產(chǎn)廠家：新科隆
二、濺射源規(guī)格
濺射源類型：磁控濺射源（可能包含射頻濺射源等其他類型）
靶材尺寸：通常支持多種尺寸的靶材，具體尺寸需根據(jù)設(shè)備配置確定（例如，某些應(yīng)用中可能使用45.6cm×12.7cm×0.5cm的靶材）
濺射功率范圍：0-3000W（具體功率可能根據(jù)實(shí)際應(yīng)用需求進(jìn)行調(diào)整）
三、真空系統(tǒng)規(guī)格
真空度：通?？蛇_(dá)到≤10^-6Pa的高真空度，以確保濺射過程的順利進(jìn)行和薄膜質(zhì)量
真空泵類型：可能包括機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、分子泵等，具體配置需根據(jù)設(shè)備型號確定
四、沉積室規(guī)格
沉積室尺寸：足夠容納所需尺寸的樣品和濺射源
樣品臺規(guī)格：可支持多種尺寸的樣品放置，并可實(shí)現(xiàn)樣品的旋轉(zhuǎn)和移動以優(yōu)化沉積效果
五、控制系統(tǒng)規(guī)格
控制方式：計(jì)算機(jī)和觸摸屏控制，實(shí)現(xiàn)自動化操作
控制參數(shù)：包括濺射功率、射頻頻率、工作氣壓、溫度、沉積時間等，可根據(jù)實(shí)際需求進(jìn)行精確設(shè)置和調(diào)整
六、其他規(guī)格
電源要求：根據(jù)設(shè)備配置和實(shí)際應(yīng)用需求確定具體的電源要求（如電壓、電流、頻率等）
輔助設(shè)備：可能包括加熱器、冷卻器、氣體控制系統(tǒng)等，以提供濺射過程中所需的輔助條件
設(shè)備尺寸和重量：具體尺寸和重量需根據(jù)設(shè)備型號和配置確定
七、性能特點(diǎn)
高性能：采用先進(jìn)的濺射技術(shù)，能夠制備高質(zhì)量、高均勻性的薄膜
高穩(wěn)定性：系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，運(yùn)行穩(wěn)定可靠
自動化程度高：控制系統(tǒng)先進(jìn)，操作簡便，易于學(xué)習(xí)和使用
多功能性：適用于多種材料的薄膜沉積，滿足不同客戶的需求
請注意，以上規(guī)格參數(shù)僅供參考，具體參數(shù)可能因設(shè)備型號、配置以及生產(chǎn)廠家的不同而有所差異。如需獲取準(zhǔn)確的規(guī)格參數(shù)，請直接聯(lián)系新科隆或相關(guān)設(shè)備供應(yīng)商進(jìn)行咨詢。
新科隆濺射機(jī)RAS-1100c是一款高性能的濺射沉積設(shè)備，其應(yīng)用廣泛，包括但不限于以下幾個方面：
一、半導(dǎo)體領(lǐng)域
在半導(dǎo)體制造過程中，新科隆濺射機(jī)RAS-1100c可用于制備各種薄膜材料，如金屬薄膜、合金薄膜、氧化物薄膜和氮化物薄膜等。這些薄膜在半導(dǎo)體器件中起著至關(guān)重要的作用，如作為導(dǎo)電層、絕緣層、保護(hù)層或功能層等。
二、光學(xué)領(lǐng)域
在光學(xué)領(lǐng)域，新科隆濺射機(jī)RAS-1100c可用于制備光學(xué)薄膜，如增透膜、反射膜、濾光膜等。這些薄膜在光學(xué)器件中具有重要的應(yīng)用價值，如提高光學(xué)器件的透光性、反射性或?yàn)V光性能等。
三、磁學(xué)領(lǐng)域
在磁學(xué)領(lǐng)域，新科隆濺射機(jī)RAS-1100c可用于制備磁性薄膜材料，如鐵磁薄膜、亞鐵磁薄膜等。這些薄膜在磁記錄、磁存儲和磁傳感器等器件中具有廣泛的應(yīng)用前景。
四、能源領(lǐng)域
在能源領(lǐng)域，新科隆濺射機(jī)RAS-1100c可用于制備太陽能電池板上的薄膜材料，如透明導(dǎo)電薄膜、減反射薄膜等。這些薄膜有助于提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率和穩(wěn)定性。
五、其他領(lǐng)域
此外，新科隆濺射機(jī)RAS-1100c還可用于制備各種功能薄膜材料，如超導(dǎo)薄膜、生物醫(yī)用薄膜等。這些薄膜在超導(dǎo)材料、生物醫(yī)學(xué)工程等領(lǐng)域具有潛在的應(yīng)用價值。
